来源 ：快科技
事实上，4年前，ASML的第一代高NA（0 。55 NA）光刻机EXE:5000，Intel就是第一个下单的公司 。不过当前的7nm、5nm芯片还并非是其生产，而是0 。33NA EUV光刻机 。
和0 。33NA光刻机相比，0 。55NA的分辨率从13nm升级到8nm，可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，突破0 。33NA单次构图32nm到30nm间距的极限 。
外界预计，第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点，至于EXE:5200，按照Intel的制程路线图，2025年至少是20A或者18A（A代表埃米），也就是2nm和1 。8nm或者20埃米和18埃米 。
【设备 | ASML 2021年营收186亿欧元，年增33%！首台最先进EUV光刻机被Intel拿下】此前，ASML发言人曾对媒体透露，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1 。7倍、同时密度增加2 。9倍 。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机 。
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